Iii族窒化物結晶成長方法およびiii族窒化物結晶成長装置およびiii族窒化物結晶

Method and apparatus for growing group iii nitride crystal, and group iii nitride crystal

Abstract

【課題】 III族窒化物が成長する領域からのフラックスの漏れを抑制し、高品質で大型のIII族窒化物結晶を実現する。 【解決手段】 反応容器104内で、フラックスと少なくともIII族金属を含む物質とが混合融液108を形成し、該混合融液108と少なくとも窒素を含む物質とから、III族金属と窒素とから構成されるIII族窒化物を結晶成長させるIII族窒化物結晶成長方法において、反応容器104内には窒素を含む物質が気体として存在している空間109があり、III族窒化物116の結晶成長の進行とともに、反応容器内の窒素を含む物質が存在している空間109の体積を制御しながら結晶成長を進行させる。 【選択図】 図2
PROBLEM TO BE SOLVED: To realize a high quality, large size group III nitride crystal by suppressing the leakage of a flux from a region where the group III nitride grows. SOLUTION: In a method for growing the group III nitride crystal, comprising forming a mixed melt 108 composed of the flux and a substance containing at least a group III metal in a reaction vessel 104 and then growing the group III nitride crystal, constituted of the group III metal and nitrogen, from the mixed melt 108 and a substance containing at least nitrogen, a space 109 where the substance containing nitrogen exists as a gas is provided in the reaction vessel 104, and the crystal is grown while controlling the volume of the space 109, where the substance containing nitrogen exists as a gas, in the reaction vessel 104 in accordance with the progression of crystal growth of the group III nitride 116. COPYRIGHT: (C)2006,JPO&NCIPI

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Patent Citations (4)

    Publication numberPublication dateAssigneeTitle
    JP-2001064098-AMarch 13, 2001Ricoh Co Ltd, 株式会社リコーMethod and device for growing crystal, and group iii nitride crystal
    JP-2003206198-AJuly 22, 2003Ricoh Co Ltd, 株式会社リコーIii族窒化物結晶成長方法およびiii族窒化物結晶成長装置
    JP-2003300799-AOctober 21, 2003Ricoh Co Ltd, 株式会社リコーMethod and apparatus for growing group iii nitride crystal
    JP-2003313098-ANovember 06, 2003Ricoh Co Ltd, 株式会社リコーMethod and apparatus for growing group iii nitride crystal

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